PI 剝除液 Stripper
用於PI相關產品的去除,標榜不傷銅/wafer底材
Pt(白金或鉑)蝕刻液的成功開發 2025-10-05
Longer bath life的雙氧水base鈦蝕刻液 2025-10-05
不含KCN,硫脲的環保型鈀蝕刻液專利取得 2024-04-03
PI rework(重工) / stripper(剝膜液)的開發 2024-04-03
非氫氟酸(HF)的玻璃/石英蝕刻液 2024-04-03
用於細線路的銅蝕刻液 2024-04-03
For fine line(L/S=2/1 um) etching process用的鈦蝕刻液 2023-09-02
不含KCN,硫脲的環保型鈀蝕刻液 2023-08-14
Low-Dk/Df 之PI絕緣漆
平角銅線之PI絕緣漆
針對未來方形銅線為主流的高效能電動車馬達線圈,我們的PI絕緣漆可達到以下優勢: 1.能在方形銅線上均勻的附著上絕緣漆!
2.可增加銅線圈於一定空間的密集度! 3.我們的PI固含量高於其他品牌絕緣漆,可達到低用量成本及高產能效率!
非氫氟酸base之玻璃(石英)蝕刻液
專門用來取代氫氟酸的酸性玻璃蝕刻液，為中弱酸性系統中的玻璃蝕刻液。不會攻擊與分解乾、溼光阻。室溫下蝕刻玻璃速率約與15~20%HF相同，對石英玻璃或矽晶圓材質蝕刻時，不會產生晶界腐蝕現象，能得到高度平滑、光亮的蝕刻表面。
NiCr蝕刻液 (NiCr etching chemical)
NiCr蝕刻液,在40度靜置的條件下其蝕刻速率> 0.3um / min
選擇性銅蝕刻液 ( Selective Cu etching chemical)
1. 只針對Cu layer進行所需之蝕刻,不傷錫合金, 鈦, 鋁,鎳等金屬, 。 2. 適用於IC substrate的Cu
seed layer及wafer Cu UBM層 3. 藥水蝕刻速率穩定性高 4. 低側蝕(undercut)
選擇性鈦蝕刻液( Selective Ti etching chemical)
After our Cu and Ti etching, the undercut < 0.2um when the pitch
is 5 um!
剝膜液/Stripper (不傷銅)
開發出不含TMAH, DMSO, NMP的溶解型剝膜液,對於Hitachi,杜邦的乾膜均能有效去除,且對於銅表面不會傷害!
去光阻液
不含TMAH, DMSO, NMP,具價格優勢!
顯影液
分為碳酸鈉 base及NaOH base兩種,價格將比國外品牌的顯影液具cost down優勢!
密特(MIT)先進材料股份有限公司成立於2012年4月,主要致力於半導體製程所需化學藥水及材料研發製造及銷售,除目前既有之化學產品外,我司亦努力於客戶所需之特殊製程及化材做客製化之合作開發!
本公司目前主要產品為黃光製程及蝕刻製程所需之相關藥水,其中最具優勢的產品為不含氟之雙氧水base鈦蝕刻液,主要特性為:
1.可同時用於蝕刻Ti, TiW 更多
本公司目前主要產品為黃光製程及蝕刻製程所需之相關藥水,其中最具優勢的產品為不含氟之雙氧水base鈦蝕刻液,主要特性為:
1.可同時用於蝕刻Ti, TiW 更多